A influência do teor de WO3 eletrodepositado sobre substrato de Titânio na atividade fotoeletrocatalítica

OWO3 é um semicondutor amplamente estudado em eletrodos visando aplicaçõesfotoeletrocatalíticas. O mesmo destaca-sepor ser atóxico, apresentar baixa energia de bandgape ainda possuir intensa absorção na região visível do espectro. Entretanto, o teor de WO3depositado sobre eletrodos podeapresentar forte influência nas propriedades fotocatalíticas. Diante desses aspectos, o objetivo desse trabalho foi avaliar aquantidade de WO3eletrodepositada sobre Ti metálicoe avaliar o efeito no desempenho fotoeletrocatalítico dos mesmos.A eletrodeposição WO3foi realizada emeletrólito contendo 0,075 % de H2O2,Na2WO45 mmol L-1epH 1,4. Os filmes de WO3foram depositadosem placas de Timetálico,os quais foram utilizadascomo eletrodo de trabalho. Como contra eletrodo utilizou-se um eletrodo de açoereferência um eletrodo saturado de calomelano -ESC (KCl 3 mol L-1). Ácélula eletroquímica aplicou-se potencial de -0,45 V nos tempos 2,5; 5; 10; 20; 30; 45 e60 minutos, denominando-oseletrodosE2,5; E5; E10; E20; E30; E45 eE60, respectivamente. Posteriormente os eletrodos modificados foram calcinados a 450 °C por 2horas.A análise da fotoatividade, utilizando como fonte de radiação uma lâmpada de Hg de 125 W, foi conduzida por voltametria de varredura linear na faixa de potencial de -0,5 a 2,0 V, velocidade de varredura de 10 mVs-1em eletrólito suporte Na2SO40,1 mol L-1. Os resultados dadeposição de WO3revelaramexcelente linearidade entre as variáveis tempo de deposiçãoe teor de W, observando-se que há umaumento da quantidade de WO3com o aumento do tempo deexperimento.Pelas análises de DRX foi confirmado oWO3em sua formacristalina, constatando-seainda que com o aumento da quantidade de WO3depositado ocasionou um maior grau de cristalinidade.Aatividade fotoeletrocatalítica dos eletrodos E2,5; E5 e E10, com baixos teores de W, apresentaram melhores desempenhos em relação aos eletrodos com maiores teores. O eletrodo E5 apresentou maior eficiência apresentando fotocorrente próxima a 16 mA cm-2 a2,0 Vvs. ECS.Além disso os eletrodos com menores porcentagens de W (E2,5; E5; E10 e E20) revelaram excelente estabilidade química;jáos eletrodos com maiores porcentagens apresentaramuma redução significativa da fotoatividadedurante as consecutivas voltametrias, possivelmentedevido àocorrência deperdasda espessa camada de WO3eletrodepositada.Portanto, tais resultados mostram que o estudo da modificação do WO3sobre o Ti metálico apresenta propriedades interessantes visando aplicação nos processos fotoeletrocatalíticos, tais como: excelente fotoatividade, estabilidade químicae uma correlação direta entre tempo de deposição e teor de W.